ETCH_PLASMA

Un plasma est un gaz ionisé. Sous l'action d'une énergie extérieure injectée dans la chambre, on excite les espèces pour créer des ions et des espèces chimiques réactives.

Ces ions et espèces chimiques réactives (qui proviennent toutes deux des gaz injectés dans la chambre) servent à déposer sur la plaque un matériau ou à retirer un matériau de la plaque.

Pour créer un plasma, il est nécessaire d'accélérer les électrons qui se baladent en compagnie des gaz injectés dans la chambre.

Pour ce faire, il faut leur insuffler de l'énergie,

- soit par radiofréquences (RF)

- soit par micro-ondes

- soit par décharges continues...

D'où la nécessité des nombreux générateurs attachés à l'équipement

Pour être entretenu, un plasma doit être dans une certaine plage de pression, d'où la nécessité d'un pompage contrôlé aux petits oignons.

Ce pompage est réalisé en 2 étapes :

- d'abord grâce à un pompage primaire, réalisé par des pompes sèches au basement

- ensuite grâce à un pompage secondaire (pour un vide plus poussé) réalisé par une pompe turbomoléculaire en ETCH ou par une pompe cryogénique en IMPL et METAL.

Vous l'aurez compris à partir de sa définition, il faut injecter des gaz dans la chambre pour créer le plasma. Ce peut être un gaz monoatomique (Hélium, Argon....) ou moléculaire (O2,N2...)

On utilise plus d'une quarantaine de gaz différents sur le site.

Ces gaz sont contrôlés par des MFC (Mass Flow Controller) et sont alimentés au travers de la Gas Box située sur l'équipement.